УФ излучатель для экспонирования фоторезиста. Часть 2. - РАДИОСХЕМЫ

     простые интересные РАДИОСХЕМЫ сделанные своими руками


» ПОИСК СХЕМ


» РАДИОБЛОГИ
БП ПК ATX: ещё модификация с плавной регулировкой тока и вольтажа
Цифровой светодиодный ампервольтметр: перепрошивка
Схема для светодиода на LM358 - танцы с бубном
Схема плавного пуска для двигателей постоянного тока
Устройство автоматического закрытия и открытия чердачных люков
Запуск двигателей на микросхемах M56730ASP и LB1854 (capstan motor)
Формовка электролитических конденсаторов и схема прибора
Белый экран и крестик на автомагнитоле (решено)


УФ излучатель для экспонирования фоторезиста. Часть 2.

В предыдущей записи я рассказал об изготовлении УФ излучателя с излучающим ультрафиолетовым светодиодом мощностью 30 ватт и спектром излучения 365 нм. Мной было произведено его тестирование. Постараюсь, как можно подробнее изложить отчет о нем. Итак - был изготовлен в SprintLayout шаблон с восемью группами линий для экспонирования их выдержками 5; 10; 15; 20; 25; 30; 35; и 40 секунд. Толщина линий слева направо в каждой группе — 0,2; 0,4; 0,6; 0,8; 0,6; 0,4; 0,2 мм. Зазоры между линиями в долях миллиметра указаны на фото и составляют ( также слева направо) — 0,7; 0,5; 0,3; 0,3; 0,5; 0,7 мм.

Примененный фоторезист — ORDIL ALPHA 350 чувствительностью в зоне 360 — 380 нм и разрешающей способностью 0,05 — 0,06 мм проводник/зазор.
Шаблон был выполнен на лазерном принтере HP с новым оригинальным картриджем и максимальным расходом тонера на пленке для лазерных принтеров Lamond. Размер шаблона 100х50 мм.

Подготовленная плата размещалась на столе медью вверх, сверху тонером вниз на нее был наложен шаблон, прижат покрывным чистым оргстеклом 300х300 мм толщиной 5 мм, пригруженным по краям для равномерного прилегания.
Высота чипа излучателя над поверхностью заготовки была выставлена — 20 см.

Экспонирование каждой группы линий производилось временем последовательно слева направо — 5 сек, 10 сек, 15 сек, 20 сек, 25 сек, 30 сек, 35 сек, 40 сек. При этом при экспонировании первой группы линий 5 сек другие группы закрывались пластинами фольгированного стеклотекстолита медью наружу. Затем щель перемещалась на вторую группу с экспозицией 10 сек, и так далее последовательно до восьмой группы с экспозицией 40 сек.

После экспозиции плата выдерживалась в темном месте около 30 мин для завершения фотохимических процессов в фоторезисте. Затем производилась смывка незасвеченного фоторезиста в растворе кальцинированной соды концентрацией примерно 2 столовые ложки на 1 литр воды при температуре около 25 градусов.
Для чистоты эксперимента при смывке кисточка не применялась, а лишь покачивание кюветы до полного растворения непрореагировавшего фоторезиста.
Вот что получилось:

Как видим, наиболее четко линии и зазоры между ними получились на выдержках 25 и 30 сек. Результат получился ожидаемым с приемлемым качеством. Крайние линии толщиной 0,2 мм имеют довольно четкие границы, как и зазоры в центре группы линий 0,3 мм.

Вывод. Установка работоспособна, качество платы удовлетворительное ( по крайней мере меня оно устраивает).

Buster333 - 21.08.2016 - Прочитали: 3799



Ваши комментарии к материалу
Добавлять комментарии могут только зарегистрированные пользователи.
[ Регистрация | Вход ]


» РАДИОЭЛЕМЕНТЫ

Группа вконтакте Канал ютуб Группа в фэйсбук © 2010-2021, "Радиосхемы". Все права защищены. Почта Моб.версия